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高純鉬靶是AMOLED面板生產(chǎn)中的關(guān)鍵原材料之一，該公司的新產(chǎn)品是適用于TFT-LCD/AMOLED的超寬高純高密鉬平面濺射靶材，主要應(yīng)用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填補(bǔ)了國內(nèi)寬幅鉬靶(1800mm)空白，對全公司未來的市場拓展、業(yè)績成長產(chǎn)生重要影響。
濺射靶材的要求較傳統(tǒng)材料行業(yè)高，一般要求如，尺寸、平整度、純度、各項(xiàng)雜質(zhì)含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸與缺陷控制；較高要求或特殊要求包含：表面粗糙度、電阻值、晶粒尺寸均勻性、成份與組織均勻性、異物（氧化物）含量與尺寸、導(dǎo)磁率、超高密度與超細(xì)晶粒等等。磁控濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜方式,就是用電子槍系統(tǒng)把電子發(fā)射并聚焦在被鍍的材料上，使其被濺射出來的原子遵循動(dòng)量轉(zhuǎn)換原理以較高的動(dòng)能脫離材料飛向基片淀積成膜。這種被鍍的材料就叫濺射靶材。 濺射靶材有金屬，合金，陶瓷化合物等。
磁控濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜方式，相比于蒸發(fā)鍍膜方式，其在很多方面有相當(dāng)明顯的優(yōu)勢。作為一項(xiàng)已經(jīng)發(fā)展的較為成熟的技術(shù)，磁控濺射已經(jīng)被應(yīng)用于許多領(lǐng)域。
洛陽高新四豐電子材料有限公司是一家從事TFT-LCD/AMOLED、半導(dǎo)體IC制造用高純?yōu)R射靶材——高純鉬/銅/鈦等系列產(chǎn)品的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售的高新技術(shù)企業(yè)。濺射靶材產(chǎn)品主要有TFT-LCD/AMOLED、半導(dǎo)體IC及光伏太陽能制造用高純鉬及鉬合金、銅、鈦、鎢等平面靶材和旋轉(zhuǎn)管靶等金屬靶材。此外，公司生產(chǎn)的鎢鉬深加工制品、鎢合金薄板和軍工用鎢合金、TZM板棒材、精加工鎢鉬零件等超高溫特種功能材料廣泛應(yīng)用于單晶爐、鋼鐵、醫(yī)療、軍工等行業(yè)。歡迎大家咨詢選購。
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