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旋轉(zhuǎn)靶材是磁控的靶材。靶材做成圓筒型的，里面裝有靜止不動的磁體，以慢速轉(zhuǎn)動。
濺射靶材用于磁控濺射鍍膜，濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜(PVD)方式。
在被濺射的靶ji(陰ji)與陽ji之間加一個正交磁場和電場，在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣)，在電場的作用下，Ar氣電離成正離子和電子， 靶上加有一定的負高壓，從靶ji發(fā)出的電子受磁場的作用與工作氣體的電離幾率增大，在陰ji附近形成高密度的等離子體，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面， 以很高的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來的原子遵循動量轉(zhuǎn)換原理以較高的動能脫離靶面飛向基片淀積成膜。
濺射靶材用途主要在太陽能電池，建筑玻璃，汽車玻璃，半導體，平板電視等。
洛陽高新四豐電子材料有限公司是一家從事TFT-LCD/AMOLED、半導體IC制造用高純?yōu)R射靶材——高純鉬/銅/鈦等系列產(chǎn)品的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售的高新技術(shù)企業(yè)。濺射靶材產(chǎn)品主要有TFT-LCD/AMOLED、半導體IC及光伏太陽能制造用高純鉬及鉬合金、銅、鈦、鎢等平面靶材和旋轉(zhuǎn)管靶等金屬靶材。此外，公司生產(chǎn)的鎢鉬深加工制品、鎢合金薄板和軍工用鎢合金、TZM板棒材、精加工鎢鉬零件等超高溫特種功能材料廣泛應用于單晶爐、鋼鐵、醫(yī)療、軍工等行業(yè)。歡迎大家咨詢選購。
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